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Semicorex ist ein professioneller Hersteller und Zulieferer in China. Unsere Fabrik stellt Fass-Suszeptoren, MoCVD-Suszeptoren, Wafer-Boote usw. her. Extremes Design, hochwertige Rohstoffe, hohe Leistung und wettbewerbsfähige Preise sind das, was jeder Kunde wünscht, und das können wir Ihnen auch bieten. Wir legen Wert auf hohe Qualität, angemessene Preise und perfekten Service.
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CVD-Epitaxialabscheidung im Trommelreaktor

CVD-Epitaxialabscheidung im Trommelreaktor

Der Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor ist ein äußerst langlebiges und zuverlässiges Produkt zum Aufwachsen epixieller Schichten auf Wafer-Chips. Aufgrund seiner Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen und seiner hohen Reinheit eignet es sich für den Einsatz in der Halbleiterindustrie. Sein gleichmäßiges thermisches Profil, das laminare Gasströmungsmuster und die Vermeidung von Kontaminationen machen es zur idealen Wahl für das Wachstum hochwertiger Epixieschichten.

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Epitaktische Siliziumabscheidung im Trommelreaktor

Epitaktische Siliziumabscheidung im Trommelreaktor

Wenn Sie einen Hochleistungs-Graphit-Suszeptor für den Einsatz in Halbleiterfertigungsanwendungen benötigen, ist der Semicorex Silicon Epitaxial Deposition In Barrel Reactor die ideale Wahl. Seine hochreine SiC-Beschichtung und außergewöhnliche Wärmeleitfähigkeit bieten hervorragende Schutz- und Wärmeverteilungseigenschaften und machen es zur ersten Wahl für zuverlässige und konstante Leistung selbst in den anspruchsvollsten Umgebungen.

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Induktiv beheiztes Barrel-Epi-System

Induktiv beheiztes Barrel-Epi-System

Wenn Sie einen Graphitsuszeptor mit außergewöhnlichen Wärmeleitfähigkeits- und Wärmeverteilungseigenschaften benötigen, sind Sie beim induktiv beheizten Zylinder-Epi-System von Semicorex genau richtig. Seine hochreine SiC-Beschichtung bietet hervorragenden Schutz in Hochtemperatur- und korrosiven Umgebungen und macht es zur idealen Wahl für den Einsatz in Halbleiterfertigungsanwendungen.

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Trommelstruktur für einen Halbleiter-Epitaxialreaktor

Trommelstruktur für einen Halbleiter-Epitaxialreaktor

Mit seiner außergewöhnlichen Wärmeleitfähigkeit und Wärmeverteilungseigenschaften ist die Semicorex-Zylinderstruktur für Halbleiter-Epitaxialreaktoren die perfekte Wahl für den Einsatz in LPE-Prozessen und anderen Halbleiterfertigungsanwendungen. Seine hochreine SiC-Beschichtung bietet hervorragenden Schutz in Umgebungen mit hohen Temperaturen und Korrosion.

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SiC-beschichteter Graphit-Fass-Suszeptor

SiC-beschichteter Graphit-Fass-Suszeptor

Wenn Sie nach einem Hochleistungs-Graphit-Suszeptor für den Einsatz in Halbleiterfertigungsanwendungen suchen, ist der SiC-beschichtete Graphit-Zylinder-Suszeptor von Semicorex die ideale Wahl. Seine außergewöhnliche Wärmeleitfähigkeit und Wärmeverteilungseigenschaften machen es zur ersten Wahl für zuverlässige und konstante Leistung in Hochtemperatur- und korrosiven Umgebungen.

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SiC-beschichteter Kristallwachstumssuszeptor

SiC-beschichteter Kristallwachstumssuszeptor

Mit seinem hohen Schmelzpunkt, seiner Oxidationsbeständigkeit und Korrosionsbeständigkeit ist der SiC-beschichtete Kristallwachstumssuszeptor von Semicorex die ideale Wahl für den Einsatz in Einkristallwachstumsanwendungen. Seine Siliziumkarbid-Beschichtung sorgt für hervorragende Ebenheit und Wärmeverteilungseigenschaften und macht es zur idealen Wahl für Umgebungen mit hohen Temperaturen.

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