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SiC-beschichteter PSS-Ätzträger

SiC-beschichteter PSS-Ätzträger

Waferträger, die beim epixialen Wachstum und bei der Waferhandhabung verwendet werden, müssen hohen Temperaturen und aggressiver chemischer Reinigung standhalten. Semicorex SiC-beschichteter PSS-Ätzträger, der speziell für diese anspruchsvollen Epitaxie-Geräteanwendungen entwickelt wurde. Unsere Produkte haben einen guten Preisvorteil und decken viele europäische und amerikanische Märkte ab. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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SiC-beschichteter Zylindersuszeptor für epitaktisches LPE-Wachstum

SiC-beschichteter Zylindersuszeptor für epitaktisches LPE-Wachstum

Der SiC-beschichtete Zylindersuszeptor von Semicorex für das epitaxiale LPE-Wachstum ist ein Hochleistungsprodukt, das für eine konstante und zuverlässige Leistung über einen längeren Zeitraum ausgelegt ist. Sein gleichmäßiges thermisches Profil, das laminare Gasströmungsmuster und die Vermeidung von Kontaminationen machen es zur idealen Wahl für das Wachstum hochwertiger Epitaxieschichten auf Waferchips. Seine Anpassbarkeit und Kosteneffizienz machen es zu einem äußerst wettbewerbsfähigen Produkt auf dem Markt.

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Laufempfänger-Epi-System

Laufempfänger-Epi-System

Das Semicorex Barrel Susceptor Epi System ist ein hochwertiges Produkt, das eine hervorragende Beschichtungshaftung, hohe Reinheit und Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen bietet. Sein gleichmäßiges thermisches Profil, das laminare Gasströmungsmuster und die Vermeidung von Kontaminationen machen es zur idealen Wahl für das Wachstum von Epixieschichten auf Waferchips. Seine Kosteneffizienz und Anpassbarkeit machen es zu einem äußerst wettbewerbsfähigen Produkt auf dem Markt.

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Flüssigphasenepitaxie (LPE)-Reaktorsystem

Flüssigphasenepitaxie (LPE)-Reaktorsystem

Das Semicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) Reaktorsystem ist ein innovatives Produkt, das eine hervorragende thermische Leistung, ein gleichmäßiges thermisches Profil und eine hervorragende Beschichtungshaftung bietet. Seine hohe Reinheit, Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen und Korrosionsbeständigkeit machen es zur idealen Wahl für den Einsatz in der Halbleiterindustrie. Seine anpassbaren Optionen und seine Kosteneffizienz machen es zu einem äußerst wettbewerbsfähigen Produkt auf dem Markt.

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CVD-Epitaxialabscheidung im Trommelreaktor

CVD-Epitaxialabscheidung im Trommelreaktor

Der Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor ist ein äußerst langlebiges und zuverlässiges Produkt zum Aufwachsen epixieller Schichten auf Wafer-Chips. Aufgrund seiner Oxidationsbeständigkeit bei hohen Temperaturen und seiner hohen Reinheit eignet es sich für den Einsatz in der Halbleiterindustrie. Sein gleichmäßiges thermisches Profil, das laminare Gasströmungsmuster und die Vermeidung von Kontaminationen machen es zur idealen Wahl für das Wachstum hochwertiger Epixieschichten.

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Epitaktische Siliziumabscheidung im Trommelreaktor

Epitaktische Siliziumabscheidung im Trommelreaktor

Wenn Sie einen Hochleistungs-Graphit-Suszeptor für den Einsatz in Halbleiterfertigungsanwendungen benötigen, ist der Semicorex Silicon Epitaxial Deposition In Barrel Reactor die ideale Wahl. Seine hochreine SiC-Beschichtung und außergewöhnliche Wärmeleitfähigkeit bieten hervorragende Schutz- und Wärmeverteilungseigenschaften und machen es zur ersten Wahl für zuverlässige und konstante Leistung selbst in den anspruchsvollsten Umgebungen.

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