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ICP Siliziumkohlenstoffbeschichteter Graphit

ICP Siliziumkohlenstoffbeschichteter Graphit

Der mit ICP-Siliziumkohlenstoff beschichtete Graphit von Semicorex ist die ideale Wahl für anspruchsvolle Wafer-Handhabung und Dünnschichtabscheidungsprozesse. Unser Produkt zeichnet sich durch hervorragende Hitze- und Korrosionsbeständigkeit, gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit und optimale laminare Gasströmungsmuster aus.

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ICP-Plasmaätzsystem für den PSS-Prozess

ICP-Plasmaätzsystem für den PSS-Prozess

Wählen Sie das ICP-Plasmaätzsystem von Semicorex für den PSS-Prozess für hochwertige Epitaxie- und MOCVD-Prozesse. Unser Produkt wurde speziell für diese Prozesse entwickelt und bietet eine hervorragende Hitze- und Korrosionsbeständigkeit. Mit einer sauberen und glatten Oberfläche eignet sich unser Träger perfekt für die Handhabung makelloser Waffeln.

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ICP-Plasmaätzplatte

ICP-Plasmaätzplatte

Die ICP-Plasmaätzplatte von Semicorex bietet eine hervorragende Hitze- und Korrosionsbeständigkeit für die Waferhandhabung und Dünnschichtabscheidungsprozesse. Unser Produkt ist so konstruiert, dass es hohen Temperaturen und aggressiver chemischer Reinigung standhält und so Haltbarkeit und Langlebigkeit gewährleistet. Mit einer sauberen und glatten Oberfläche eignet sich unser Träger perfekt für die Handhabung makelloser Waffeln.

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Siliziumkarbid-ICP-Ätzträger

Siliziumkarbid-ICP-Ätzträger

Suchen Sie einen zuverlässigen Waferträger für Ätzprozesse? Dann ist der Siliziumkarbid-ICP-Ätzträger von Semicorex genau das Richtige für Sie. Unser Produkt ist so konstruiert, dass es hohen Temperaturen und aggressiver chemischer Reinigung standhält und so Haltbarkeit und Langlebigkeit gewährleistet. Mit einer sauberen und glatten Oberfläche eignet sich unser Träger perfekt für die Handhabung makelloser Waffeln.

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SiC-Platte für den ICP-Ätzprozess

SiC-Platte für den ICP-Ätzprozess

Die SiC-Platte von Semicorex für den ICP-Ätzprozess ist die perfekte Lösung für hohe Temperaturen und raue chemische Verarbeitungsanforderungen bei der Dünnschichtabscheidung und Waferhandhabung. Unser Produkt zeichnet sich durch eine hervorragende Hitzebeständigkeit und gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit aus und gewährleistet eine gleichmäßige Dicke und Beständigkeit der Epi-Schicht. Mit einer sauberen und glatten Oberfläche sorgt unsere hochreine SiC-Kristallbeschichtung für eine optimale Handhabung makelloser Wafer.

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SiC-beschichteter ICP-Ätzträger

SiC-beschichteter ICP-Ätzträger

Semicorex SiC-beschichteter ICP-Ätzträger, der speziell für Epitaxiegeräte mit hoher Hitze- und Korrosionsbeständigkeit in China entwickelt wurde. Unsere Produkte haben einen guten Preisvorteil und decken viele europäische und amerikanische Märkte ab. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.

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