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Produkte
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PAN-basierte Kohlefaser
Semicorex PAN-basierter Kohlefaser-Graphit-Weichfilz ist ein leichtes, leistungsstarkes Isoliermaterial, das für den Einsatz in Umgebungen mit hohen Temperaturen entwickelt wurde. Wählen Sie Semicorex aufgrund unseres Engagements für die Bereitstellung innovativer, zuverlässiger und maßgeschneiderter Lösungen, die die Effizienz und Präzision in kritischen Anwendungen verbessern.*
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Poröser Graphitzylinder
Semicorex Porous Graphite Barrel ist ein hochreines Material mit einer sehr offenen, miteinander verbundenen Porenstruktur und hoher Porosität, das zur Förderung des SiC-Kristallwachstums in modernen Öfen entwickelt wurde. Wählen Sie Semicorex für innovative Halbleitermateriallösungen, die höchste Qualität, Zuverlässigkeit und Präzision bieten.*
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Poröser Graphitstab
Der poröse Graphitstab von Semicorex ist ein hochreines Material mit einer sehr offenen, miteinander verbundenen Porenstruktur und hoher Porosität, das speziell zur Verbesserung des SiC-Kristallwachstumsprozesses entwickelt wurde. Wählen Sie Semicorex für hochmoderne Halbleitermateriallösungen, bei denen Präzision, Zuverlässigkeit und Innovation im Vordergrund stehen.*
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Quarz-Wafer-Bootshalterung
Die Quarz-Wafer-Bootshalterung von Semicorex ist eine unverzichtbare Komponente bei der Herstellung von Halbleiterwafern und Photovoltaikzellen. Sie bietet außergewöhnliche Materialeigenschaften und Designmerkmale, sorgt für Waferstabilität und verbessert die Prozessergebnisse.
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Schwarzer Zirkonia-Ring
Der schwarze Zirkonoxidring von Semicorex ist eine Hochleistungskomponente, die eine einzigartige Mischung aus mechanischer Festigkeit, Härte und Beständigkeit gegenüber thermischen und chemischen Herausforderungen bei der Abdichtung und Isolierung bei Bearbeitungs- und metallurgischen Prozessen bietet.
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Aluminiumoxid-Wafer-Polierträger
Semicorex Alumina Wafer Polishing Carrier wird in verschiedenen Branchen, von der Halbleiterindustrie bis zur Photovoltaik, eingesetzt und spielt eine entscheidende Rolle beim Schleifen und chemisch-mechanischen Polieren (CMP) von Wafern.
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