Die SiC-beschichtete Waferscheibe von Semicorex stellt einen führenden Fortschritt in der Halbleiterfertigungstechnologie dar und spielt eine wesentliche Rolle im komplexen Prozess der Halbleiterherstellung. Diese mit größter Präzision gefertigte Scheibe besteht aus hochwertigem SiC-beschichtetem Graphit und bietet hervorragende Leistung und Haltbarkeit für Siliziumepitaxieanwendungen. Wir bei Semicorex widmen uns der Herstellung und Lieferung leistungsstarker SiC-beschichteter Waferscheiben, die Qualität mit Kosteneffizienz verbinden.
WeiterlesenAnfrage absendenDer SiC-Duschkopf von Semicorex ist eine wesentliche Komponente im epitaktischen Wachstumsprozess und wurde speziell entwickelt, um die Gleichmäßigkeit und Effizienz der Dünnschichtabscheidung auf Halbleiterwafern zu verbessern. Semicorex ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
WeiterlesenAnfrage absendenDie TaC-beschichtete Planetenplatte von Semicorex ist eine Hochleistungskomponente, die speziell für MOCVD-Systeme entwickelt wurde. Semicorex ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex TaC Coating Upper Halfmoon ist eine Spezialkomponente, die für leistungsstarke Epitaxieprozesse in der Halbleiterfertigung entwickelt wurde. Semicorex ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
WeiterlesenAnfrage absendenSemicorex Tantalum Carbide Coating Halfmoon Part ist eine hochspezialisierte Komponente, die für den Einsatz im epitaktischen Abscheidungsprozess entwickelt wurde. Semicorex ist bestrebt, Qualitätsprodukte zu wettbewerbsfähigen Preisen anzubieten. Wir freuen uns darauf, Ihr langfristiger Partner in China zu werden.
WeiterlesenAnfrage absendenDas Semicorex SiC Wafer Tray ist ein wichtiger Bestandteil des MOCVD-Prozesses (Metal-Organic Chemical Vapour Deposition) und wurde sorgfältig entwickelt, um Halbleiterwafer während des wesentlichen Schritts der epitaktischen Schichtabscheidung zu stützen und zu erhitzen. Dieses Tablett ist ein wesentlicher Bestandteil der Halbleiterbauelementfertigung, bei der die Präzision des Schichtwachstums von größter Bedeutung ist. Wir bei Semicorex widmen uns der Herstellung und Lieferung leistungsstarker SiC-Wafer-Trays, die Qualität mit Kosteneffizienz verbinden.
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