Semicorex-Keramik-Fokusringe für Halbleiter sind Hochleistungsringteile aus CVD-SiC-Materialien, die speziell für hochintensive Plasmaätzumgebungen entwickelt wurden. Semicorex ist ein branchenführender Hersteller von CVD-SiC-Keramik-Fokusringen für Halbleiter. Wir freuen uns auf Ihre Anfrage.
Semicorex-KeramikFokusrings für Halbleiter sind die idealen Lösungen, die auf die rauen Betriebsbedingungen beim Plasmaätzen zugeschnitten sind. Während des anspruchsvollen Halbleiterätzprozesses ist es von entscheidender Bedeutung, die Plasmaverteilung präzise zu steuern, um die Stabilität der Ätzkammer und eine konsistente Gleichmäßigkeit des Halbleiterätzens sicherzustellen. Als unverzichtbare Komponenten moderner Ätzanlagen werden Fokusringe typischerweise um die Halbleiterwafer herum positioniert und kommen mit ihnen in direkten Kontakt. Die Leistung von Fokusringen hat direkte Auswirkungen auf die Prozesswiederholbarkeit, die Produktausbeute und die Geräteverfügbarkeit.
Die Reinheit unsererCVD-SiCMaterial übersteigt 99,9995 %. Dadurch kann eine Kontamination der Ätzkammer und der Halbleiterwafer durch unzureichende Materialreinheit wirksam verhindert werden.
Semicorex-Keramik-Fokusringe für Halbleiter bestehen aus CVD-SiC und zeichnen sich durch eine hervorragende Beständigkeit gegen Oxidation, Erosion und chemische Korrosion aus. Sie sind besonders wirksam gegen Prozessgase wie HF und HCI sowie Plasmagas.
Die Widerstandsgleichmäßigkeit der Semicorex-Keramik-Fokusringe für Halbleiter beträgt weniger als 5 %.
Widerstandsbereiche: Niedrige Auflösung. (<0,02 Ω·cm), Mittlere Res. (0,2–25 Ω·cm), Hohe Auflösung. (>100 Ω·cm).
Semicorex-Fokusringe aus Keramik für Halbleiter können die Verteilung des elektrischen Feldes innerhalb der Ätzkammer steuern und eine gleichmäßigere Plasmahülle um Halbleiterwafer erzielen, sodass das Plasma vertikal und gleichmäßig auf die Waferoberfläche auftreffen kann. Auf diese Weise kann der Ätzkanteneffekt stark reduziert und die Ätzpräzision deutlich verbessert werden.
Ohne den Schutz durch Fokusringe im Ätzprozess ist die elektrostatische Halterung dem Beschuss und der Erosion von hochenergetischem Plasma ausgesetzt. Elektrostatische Spannfutter werden aus teuren Materialien hergestellt und erfordern einen extrem hohen Austauschaufwand. Durch die Verwendung von Fokusringen kann die Plasmakorrosion am elektrostatischen Spannfutter wirksam verringert und die Wartungs- und Austauschkosten des elektrostatischen Spannfutters minimiert werden.