Die SiC-Platte von Semicorex für den ICP-Ätzprozess ist die perfekte Lösung für hohe Temperaturen und raue chemische Verarbeitungsanforderungen bei der Dünnschichtabscheidung und Waferhandhabung. Unser Produkt zeichnet sich durch eine hervorragende Hitzebeständigkeit und gleichmäßige thermische Gleichmäßigkeit aus und gewährleistet eine gleichmäßige Dicke und Beständigkeit der Epi-Schicht. Mit einer sauberen und glatten Oberfläche sorgt unsere hochreine SiC-Kristallbeschichtung für eine optimale Handhabung makelloser Wafer.
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