Quarz-Schmelztiegel

Derzeit ist dieQuarzschmelztiegelfür die Kristallzüchtung in der Wafer-Herstellungsindustrie besteht aus einer dreischichtigen Verbundstruktur. Diese dreischichtige Struktur ermöglicht es dem Quarzschmelztiegel, seine Form und Integrität auch dann beizubehalten, wenn er während des Kristallziehprozesses unterschiedlich starken Temperaturgradientenänderungen ausgesetzt ist. Im Vergleich zur herkömmlichen zweischichtigen Struktur bietet die dreischichtige Struktur eine bessere mechanische Festigkeit, ein besseres Wärmemanagement und eine bessere Kosteneffizienz sowie verbesserte Wärmeübertragungseigenschaften. 

Die undurchsichtige Schicht ist die äußere Schicht des Quarzschmelztiegels mit einer großen Anzahl gleichmäßig verteilter Blasen, die einen wärmeerhaltenden Effekt haben können, um eine gleichmäßige Hitze des Quarzschmelztiegels sicherzustellen. Die vakuumtransparente Schicht in der Mitte hat einen relativ geringen Blasengehalt, eine gleichmäßige Dichte, ist nicht leicht zu verformen und trennt die Siliziumschmelzflüssigkeit von der Blasenschicht. Die Innenbeschichtung besteht typischerweise aus hochreinem synthetischem Quarz. Quarzschmelztiegel stellen hohe Anforderungen an die Reinheit des für die Innenbeschichtung verwendeten Quarzes, denn dieser bestimmt die Qualität der herausgezogenen Kristalle.

Ausgewählte hohe Qualität von SemicorexQuarzträgt zur Kontaminationskontrolle bei und sorgt für stabile Kristallwachstumsbedingungen.

Quarzschmelztiegel sind wichtige Verbrauchsmaterialien, die in der Halbleiter- und Photovoltaikindustrie weit verbreitet sind. Da sie die einzigen Komponenten sind, die direkt mit der Siliziumschmelzflüssigkeit in Kontakt kommen, wirkt sich ihre Reinheit auf die Qualität und die Kosten aus. Mit hoher Reinheit, hervorragender Hochtemperaturbeständigkeit, hervorragender thermischer Stabilität, ausgezeichneter Haltbarkeit und verschiedenen verfügbaren Größen sind Semicorex-Quarzschmelztiegel für die Si-Kristallzüchtung Ihre ideale Wahl.