Elektrostatisches PBN-Spannfutter

Materialeigenschaften vonPBNElektrostatisches Spannfutter

Hochtemperaturbeständigkeit und Spannungsfestigkeit

DerPBNElectrostatic Chuck ist bekannt für seine außergewöhnliche Hochtemperaturbeständigkeit, eine Eigenschaft, die im Halbleiterherstellungsprozess von entscheidender Bedeutung ist. Pyrolytisches Bornitrid (PBN), das für die Konstruktion des Spannfutters verwendete Material, weist einen höheren spezifischen Widerstand auf als die am häufigsten verwendeten Keramiken, was für die Aufrechterhaltung der Johnsen-Rahbek (J-R)-Spannfutterkraft bis zu Temperaturen von 1050 °C von entscheidender Bedeutung ist. Dieser hohe spezifische Widerstand, gepaart mit seiner hohen Spannungsfestigkeit, sorgt dafür, dass ein elektrischer Durchschlag auch bei starker Hitze wirksam verhindert wird, und erhöht so die Betriebssicherheit des Spannfutters.

Thermische Gleichmäßigkeit und Schockfestigkeit

Die hexagonale Gitterstruktur von PBN, die durch chemische Gasphasenabscheidung bei Temperaturen über 1500 °C hergestellt wird, trägt zu seiner hervorragenden thermischen Gleichmäßigkeit und Schockfestigkeit bei. Die hochdichten Heizelemente im InnerenPBNMit dem elektrostatischen Spannfutter kann ein konsistentes Wafer-Wärmeprofil mit einer guten Gleichmäßigkeit von 1,1–1,5 % bei Temperaturen von 600–800 °C erreicht werden. Darüber hinaus weist das PBN-basierte Spannfutter eine bemerkenswerte Thermoschockbeständigkeit und eine geringere thermische Masse auf, sodass es 600 °C mit einer schnellen Anstiegsgeschwindigkeit von 23 °C/Sek. erreichen kann, ohne dass die Gefahr einer Rissbildung oder Delaminierung besteht.

Anpassbare Mehrzonenheizung

Das elektrostatische Spannfutter PBN ist hochgradig anpassbar und verfügt über Mehrzonen-Heizfunktionen, die eine maximale Temperaturkontrolle ermöglichen. Dieser Grad an Individualisierung gewährleistet, dass jedes Spannfutter an die spezifischen Anforderungen einzelner Kunden angepasst werden kann und eine flexible Lösung für verschiedene Halbleiterverarbeitungsanwendungen bietet.

Anwendungen vonPBNElektrostatisches Spannfutter

Ionenimplantation und Wafer-Handling

Das elektrostatische PBN-Chuck ist das bevorzugte Wafer-Handhabungsgerät bei Ionenimplantationsprozessen. Seine Fähigkeit, Wafer bei Temperaturen über 1000 °C zu halten, macht ihn zu einem der vielseitigsten elektrostatischen Spannfutter auf dem Markt. Diese Vielseitigkeit wird durch die Fähigkeit, Wafer dank der hochdichten Mehrzonen-Heizelemente innerhalb sehr enger Temperaturbereiche zu halten, noch verstärkt.

Siliziumkarbid-Ionenimplantation

Bei der spezifischen Anwendung der SiC-Ionenimplantation ist diePBNElectrostatic Chuck bietet eine praktikable Lösung für die Herausforderungen der Wafererwärmung und -handhabung. Seine Doppelfunktionsfähigkeiten, zu denen eine hohe Spannkraft, eine hohe Heizleistung, eine gute thermische Gleichmäßigkeit und eine schnelle Reaktion gehören, machen es zur idealen Wahl für die Bewältigung der komplexen Anforderungen der SiC-Ionenimplantation.

Halbleiterfertigung

Das elektrostatische PBN-Chuck spielt eine entscheidende Rolle in der Halbleiterfertigung, wo eine präzise Waferhandhabung und Temperaturkontrolle unerlässlich sind. Aufgrund seiner hohen Thermoschockbeständigkeit und schnellen Temperaturanstiegsfähigkeit eignet es sich für fortschrittliche Halbleiterprozesse, die ein strenges Temperaturmanagement und schnelle Temperaturwechsel erfordern.