Warum SiC-beschichtete Graphitsuszeptoren wählen?

Graphitsuszeptorist einer der wesentlichen Teile der MOCVD-Ausrüstung, der Träger und die Heizung des Wafer-Substrats. Seine Eigenschaften der thermischen Stabilität und thermischen Gleichmäßigkeit spielen eine entscheidende Rolle für die Qualität des Wafer-Epitaxiewachstums, das direkt die Gleichmäßigkeit und Reinheit der Schichtmaterialien bestimmt, wodurch sich seine Qualität direkt auf die Vorbereitung der Epitaxie auswirkt. Mittlerweile geht es mit zunehmender Einsatzhäufigkeit und veränderten Arbeitsbedingungen sehr leicht verloren und gehört zu den Verbrauchsmaterialien. Die hervorragende Wärmeleitfähigkeit und Stabilität von Graphit machen es zu einem guten Vorteileine Basiskomponente für MOCVD-Geräte. Wenn jedoch nur reiner Graphit verwendet wird, treten einige Probleme auf. Im Produktionsprozess entstehen korrosive Gase und metallorganische Rückstände, die Graphitbasis korrodiert und das Pulver fällt ab, was die Lebensdauer erheblich verkürztGraphitsuszeptor, und das heruntergefallene Graphitpulver führt auch zu einer Verschmutzung des Chips, daher müssen diese Probleme auch im Vorbereitungsprozess der Basis gelöst werden. Die Beschichtungstechnologie kann für eine Fixierung des Oberflächenpulvers sorgen, die Wärmeleitfähigkeit verbessern und die Wärmeverteilung ausgleichen, was zur Haupttechnologie zur Lösung dieses Problems wird. Die Haupttechnologie besteht darin, dieses Problem zu lösen. Je nach Anwendungsumgebung und Anforderungen vonGraphitsuszeptorenDie Oberflächenbeschichtung sollte folgende Eigenschaften aufweisen.

Hohe Dichten und vollständige Umhüllung: Die gesamte Graphitbasis befindet sich in einer korrosiven Arbeitsumgebung mit hohen Temperaturen. Die Oberfläche muss vollständig umhüllt sein, während die Beschichtung eine gute Dichte aufweisen muss, um eine gute Schutzfunktion zu erfüllen.

Gute Oberflächenebenheit: Da die für die Einkristallzüchtung verwendete Graphitbasis eine sehr hohe Oberflächenebenheit erfordert, muss die ursprüngliche Ebenheit der Basis nach der Vorbereitung der Beschichtung erhalten bleiben, d. h. die Beschichtungsoberfläche muss gleichmäßig sein.

Gute Haftfestigkeit: Durch die Verringerung des Unterschieds im Wärmeausdehnungskoeffizienten zwischen Graphitbasis und Beschichtungsmaterial kann die Haftfestigkeit zwischen ihnen effektiv verbessert werden, und die Beschichtung reißt nach thermischen Zyklen bei hohen und niedrigen Temperaturen nicht so leicht.

Hohe Wärmeleitfähigkeit: Für ein qualitativ hochwertiges Spanwachstum ist eine schnelle und gleichmäßige Erwärmung der Graphitbasis erforderlich, daher sollte das Beschichtungsmaterial eine hohe Wärmeleitfähigkeit aufweisen.

Hoher Schmelzpunkt, Oxidations- und Korrosionsbeständigkeit bei hohen Temperaturen: Die Beschichtung sollte in der Lage sein, bei hohen Temperaturen und korrosiven Arbeitsumgebungen stabil zu funktionieren.