TaC-Beschichtung im CVD-Verfahren

Tantalkarbidbeschichtung ist ein wichtiger hochfester, korrosionsbeständiger und chemisch stabiler Hochtemperatur-Strukturwerkstoff mit einem Schmelzpunkt von bis zu 4273 °C, einer der mehreren Verbindungen mit der höchsten Temperaturbeständigkeit. Es verfügt über ausgezeichnete mechanische Eigenschaften bei hohen Temperaturen, Beständigkeit gegen Scheuern durch Hochgeschwindigkeitsluftströme, Ablationsbeständigkeit und eine gute chemische und mechanische Kompatibilität mit Graphit und Kohlenstoff/Kohlenstoff-Verbundwerkstoffen. Daher weist die TaC-Beschichtung im Epitaxieprozess von GaN-LEDs und SiC-Leistungsbauelementen wie MOCVD eine ausgezeichnete Säure- und Alkalibeständigkeit gegenüber H2, HCl und NH3 auf, wodurch das Graphitsubstratmaterial vollständig geschützt und die Wachstumsumgebung gereinigt werden kann.

Die TaC-Beschichtung bleibt bei Temperaturen über 2000 °C stabil, während die SiC-Beschichtung bei 1200–1400 °C beginnt, sich zu zersetzen, was auch die Integrität des Graphitsubstrats erheblich verbessert. Tantalcarbid-Beschichtungen werden derzeit hauptsächlich durch CVD auf Graphitsubstraten hergestellt, und die Produktionskapazität von TaC-Beschichtungen wird weiter erhöht, um die Nachfrage nach SiC-Leistungsgeräten und GaNLEDs-Epitaxiegeräten zu decken.

Das chemische Reaktionssystem zur Abscheidung von Tantalcarbid-Beschichtungen auf Kohlenstoffmaterialien durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD) besteht aus TaCl5, C3H6, H2 und Ar, wobei Ar als Verdünnungs- und Trägergas verwendet wird.

Tantalkarbidbeschichtungen spielen eine zentrale Rolle im Epitaxieprozess von GaN-LEDs und SiC-Leistungsbauelementen mittels MOCVD. Die fortschrittlichen Materialien schützen wichtige Komponenten und gewährleisten deren Langlebigkeit und Leistung unter den rauen Bedingungen, die mit der Hochtemperatur-Halbleiterfertigung einhergehen.

Da die Nachfrage nach SiC-Leistungsgeräten und GaN-LEDs weiter steigt, wird die Produktionskapazität für Tantalcarbid-Beschichtungen voraussichtlich erweitert. Die Hersteller sind bereit, den wachsenden Anforderungen dieser Branchen gerecht zu werden und die Weiterentwicklung der Hochtemperaturtechnologie zu erleichtern.

Abschließend,Tantalkarbidbeschichtungenstellen einen unglaublichen Technologiesprung bei der Gewährleistung der Haltbarkeit und Zuverlässigkeit von Materialien in Hochtemperaturumgebungen dar. Während sie die Halbleiter- und Leistungselektronikbranche weiterhin revolutionieren, unterstreichen diese Beschichtungen ihren Status als entscheidendes Element moderner High-Tech-Fortschritte.