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Isostatische Graphittiegel zum Schmelzen

Isostatische Graphittiegel zum Schmelzen

Isostatische Graphittiegel zum Schmelzen von Semicorex werden mithilfe isostatischer Presstechniken hergestellt, die ihre Materialdichte und mechanischen Eigenschaften verbessern. Das Ergebnis ist ein Behälter, der nicht nur den extremen Temperaturen und korrosiven Umgebungen standhält, die für die Halbleiterverarbeitung typisch sind, sondern auch eine langfristige Haltbarkeit bietet. Die Robustheit der Tiegel stellt sicher, dass sie wiederholten Temperaturwechseln ohne Beeinträchtigung standhalten und so über längere Betriebszeiträume hinweg eine gleichbleibende Leistung bieten. Wir bei Semicorex widmen uns der Herstellung und Lieferung leistungsstarker isostatischer Graphittiegel zum Schmelzen, die Qualität mit Kosteneffizienz verbinden.

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Produktbeschreibung

Die isostatischen Graphittiegel von Semicorex zum Schmelzen weisen die einzigartige Eigenschaft auf, dass ihre mechanische Festigkeit mit steigender Temperatur zunimmt. Diese Eigenschaft ist besonders vorteilhaft bei Hochtemperatur-Halbleiterkristallwachstumsprozessen wie der Czochralski-Methode, bei denen der Tiegel unter extremen thermischen Bedingungen seine strukturelle Integrität bewahren muss. Die erhöhte Festigkeit bei erhöhten Temperaturen stellt sicher, dass die isostatischen Graphittiegel zum Schmelzen den mechanischen Belastungen standhalten, die mit der Handhabung und Bewegung geschmolzener Materialien verbunden sind, wodurch das Risiko von Brüchen oder Verformungen während des Betriebs verringert wird.


Die isostatischen Graphittiegel zum Schmelzen sind für ihre außergewöhnliche Beständigkeit gegenüber hohen Temperaturen bekannt und eignen sich daher ideal für Halbleiteranwendungen, die eine längere Einwirkung extremer Hitze erfordern. Diese isostatischen Graphittiegel zum Schmelzen können ihre Leistung weit über 2000 °C aufrechterhalten und stellen sicher, dass sie während des Schmelzens und Kristallisierens von Materialien wie Silizium und Saphir stabil bleiben. Diese Hochtemperaturbeständigkeit ist für die Aufrechterhaltung der Reinheit und Qualität der gezüchteten Kristalle von entscheidender Bedeutung, da sie eine Kontamination und Verschlechterung des Tiegelmaterials im Laufe der Zeit verhindert.


Diese isostatischen Graphittiegel zum Schmelzen können schnellen Temperaturänderungen ohne Risse oder Abplatzungen standhalten, was bei Prozessen mit plötzlichen Aufheiz- und Abkühlzyklen von entscheidender Bedeutung ist. Diese Thermoschockbeständigkeit gewährleistet die Langlebigkeit des Tiegels und verringert die Wahrscheinlichkeit von Prozessunterbrechungen aufgrund von Tiegelversagen, wodurch die Gesamteffizienz und Produktivität des Tiegels verbessert wird.


Die chemische Stabilität der isostatischen Graphittiegel zum Schmelzen stellt sicher, dass sie in Umgebungen mit hohen Temperaturen inert bleiben und chemische Reaktionen verhindert werden, die die Reinheit der Halbleiterkristalle beeinträchtigen könnten. Diese Stabilität ist für die Aufrechterhaltung der Leistung und Zuverlässigkeit des Tiegels während des gesamten Kristallwachstumsprozesses von entscheidender Bedeutung. Es stellt außerdem sicher, dass die isostatischen Graphittiegel zum Schmelzen keine Verunreinigungen in die Schmelze einbringen, wodurch die Qualität des Endprodukts erhalten bleibt.



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