Graphitelektrode

Die Semicorex-Graphitelektrode ist eine hochreine, präzisionsgefertigte Graphitkomponente für den Einsatz in thermischen Halbleiteranwendungen, bei denen elektrische Leitfähigkeit, thermische Stabilität und Maßgenauigkeit von größter Bedeutung sind. Tatsächlich werden diese Art von Elektroden in Hochtemperaturöfen, Epitaxiereaktoren und thermischen Verarbeitungskammern verwendet und ermöglichen eine stabile Stromleitung, Wärmeübertragung und Stabilität unter aggressiven Temperatur- und Atmosphärenbedingungen. Aufgrund der extremen Reinheit, der Gleichmäßigkeit der festen Struktur und der hohen mechanischen Eigenschaften der Semicorex-Graphitelektroden können sie eine zuverlässige thermische Leistung als Heizelemente in anspruchsvollen Halbleiteranwendungen bieten

Die Semicorex-Graphitelektrode ist eine hochreine, präzisionsgefertigte Graphitkomponente für den Einsatz in thermischen Halbleiteranwendungen, bei denen elektrische Leitfähigkeit, thermische Stabilität und Maßgenauigkeit von größter Bedeutung sind. Tatsächlich werden diese Art von Elektroden in Hochtemperaturöfen, Epitaxiereaktoren und thermischen Verarbeitungskammern verwendet und ermöglichen eine stabile Stromleitung, Wärmeübertragung und Stabilität unter aggressiven Temperatur- und Atmosphärenbedingungen. Aufgrund der extremen Reinheit, der Gleichmäßigkeit der festen Struktur und der hohen mechanischen Eigenschaften der Semicorex-Graphitelektroden können sie eine zuverlässige thermische Leistung als Heizelemente in anspruchsvollen Halbleiteranwendungen bieten

Ultra Performance in unseremGraphit

Unser Graphit garantiert eine überragende Leistungsgleichmäßigkeit. Erstens haben unsere Öfen während des Karbonisierungsprozesses nur 115 Kubikmeter. Unser technisches Team überwacht das Temperaturfeld der Graphitprodukte in verschiedenen Bereichen jedes Ofens. Im anfänglichen Niedrigtemperaturstadium (0–200 °C) kontrollieren wir die Temperatur innerhalb von ±10 °C und bei hohen Temperaturen (über 600 °C) innerhalb von ±1 °C. Wir überwachen nicht nur das Temperaturfeld zwischen verschiedenen Graphitpartikeln, sondern auch die Oberflächen- und Innentemperatur jedes einzelnen Graphitstücks und kontrollieren sie auf ±3 °C. Wir überwachen 8 Temperaturpunkte in jedem Schwelofen.

Zweitens überwachen wir während des Graphitisierungsprozesses am Beispiel einer 500-kg-Charge auch 8 Temperaturpunkte. Nach der Graphitisierung nehmen wir stichprobenartig Stichproben und zerstörende Tests an 24 Punkten entlang der X-, Y- und Z-Achse, um die Gleichmäßigkeit sicherzustellen. Die meisten Unternehmen in der Branche testen nur die X-Achse oder höchstens die XY-Achse, wobei typische Hersteller nur 6–8 Punkte testen und bessere Hersteller 12 Punkte. Wir testen 24 Punkte.

Im thermischen Halbleiterbereich ist die Graphitelektrode ein entscheidender Teil der Heizbaugruppe. Sie leitet elektrischen Strom in die Heizzone und ermöglicht eine kontrollierte Temperaturverteilung über einen bestimmten Prozess, wie Oxidation, Diffusion, LPCVD oder Epitaxie. Die Graphitelektrode muss bei Temperaturen über 2000 °C zuverlässig funktionieren und gleichzeitig Oxidation, Verformung oder Kontamination der Heizstelle widerstehen.

Semicorex-Graphitelektroden verfügen über eine hervorragende elektrische Leitfähigkeit, die eine effektive Leistungsabgabe mit minimalen Verlusten ermöglicht, und sie verfügen über eine hervorragende Wärmeleitfähigkeit, die eine schnelle, gleichmäßige Wärmeübertragung im Ofen ermöglicht. Die Kombination aus geringer Wärmeausdehnung und hoher mechanischer Festigkeit reduziert Verformungen und Risse bei Temperaturwechseln und sorgt so für ein stabiles Verhalten über lange Nutzungsdauern. Jede Elektrode wird mit strengen Maßtoleranzen und einer feinen Oberflächenbeschaffenheit bearbeitet, um einen gleichmäßigen Kontakt und einen vernachlässigbaren elektrischen Widerstand an der Kontaktfläche zu gewährleisten.

Unter Berücksichtigung der spezifischen Anforderungen von Halbleiterprozessen kann Semicorex maßgeschneiderte Elektrodendesigns entwickeln, die zu jeder Ofenkonfiguration und Leistungsspezifikation passen. Verschiedene Durchmesser, Längen, Anschlussarten oder Oberflächenveredelungen können zur Verfügung gestellt werden. Bei Bedarf können Beschichtungsmaterialien wie SiC oder pyrolytischer Kohlenstoff aufgetragen werden, um die Oxidationsbeständigkeit und Lebensdauer in Umgebungen mit hohem Sauerstoffgehalt oder reaktiven Gasen zu verbessern.

Die hohe Reinheit desGraphitmaterialdient dazu, einen unglaublich niedrigen Gehalt an metallischen Verunreinigungen (und gasförmigen Verunreinigungen) sicherzustellen, oft mehr als 99,999 % Kohlenstoff. Solch geringe Verunreinigungen tragen dazu bei, eine Kontamination der Halbleiterwafer während der thermischen Verarbeitung zu vermeiden. In Kombination mit der erheblichen Bearbeitungstiefe und der polierten Oberfläche erfüllen Semicorex-Graphitelektroden sowohl die mechanische als auch die chemische Stabilität modernster Wafer-Herstellungstechnologien.

Ob in Diffusionsöfen, Epitaxie-Reaktoren oder Hochtemperatur-Verarbeitungsgeräten – die Semicorex-Graphitelektrode bietet unübertroffene Leistung in den anspruchsvollsten thermischen Umgebungen. Durch die Kombination von hoher Reinheit, präziser Geometrie und fortschrittlicher Materialverarbeitung liefert Semicorex eine Elektrodenlösung, die eine stabile Stromleitung, gleichmäßige Erwärmung und langfristige Betriebszuverlässigkeit gewährleistet, die für die Halbleiterfertigung der nächsten Generation unerlässlich sind.